迅杰光遠亮相第六屆深圳國際半導體技術暨應用展覽會

SEMI-e第六屆深圳國際半導體展，于6月26-28日在深圳國際會展中心(寶安)盛大召開！本屆展覽會是由中國通信工業協會、深圳市半導體行業協會、深圳市中新材會展有限公司、江蘇省半導體行業協會、浙江省半導體行業協會、成都市集成電路行業協會等單位聯合主辦，旨在推動半導體行業的交流與合作，展示新的技術成果與趨勢。迅杰光遠攜新技術和半導體行業專業解決方案亮相此次展覽會。

大會概況

第六屆SEMI-e以【“芯"中有“算"· 智享未來】為主題，覆蓋晶圓、封測、設計、芯片、檢測等領域。展覽面積高達60000平方米，來自全球各地的815家參展商齊聚一堂，他們攜帶新技術、前沿的產品和更優技術解決方案亮相，全面展示半導體行業的新技術、新產品、新亮點、新趨勢，構建起了半導體產業交流融合的新生態。

本次展覽會展無疑是半導體行業技術創新與交流的重要舞臺。參展企業紛紛亮出新技術與前沿產品，這些不僅映射出半導體行業的新動態與發展趨勢，更為業內企業搭建了一個互動交流的平臺，激發了行業內的創新活力，推動了半導體技術的持續進步。半導體行業的翹楚企業、專家學者齊聚一堂，通過這一盛會，半導體產業的發展脈絡愈發清晰。同時，展會也助力企業尋找新的合作伙伴，共同推動產業向前發展。

迅杰風采

迅杰光遠在本次展會上展出的IAS-M100系列化學藥液濃度計，獲得了普遍關注和贊譽。該設備能夠實時監控濕法刻蝕、清洗和光阻去除藥液的濃度，并通過閉環定量控制，確保藥液使用都準確無誤。這項創新產品和技術不僅體現了迅杰光遠在近紅外光譜分析技術領域的深厚研發實力，也展示了在半導體行業發展中的廣闊應用前景。

IAS-M100系列化學藥液濃度計

IAS-M100系列化學藥液濃度計是專業針對關鍵清洗和刻蝕工藝而設計的藥液濃度分析儀器，主要應用于半導體工業、FPD、太陽能等高科技行業的濕法制程環節。該設備不僅能夠實時監控濕法刻蝕、清洗和光阻去除藥液的濃度，還能實現藥液濃度的閉環定量控制，確保藥液使用的精確性和高效性。工作人員能夠實時掌握藥液濃度的變化，從而有效降低藥液的無效消耗，并明顯減少異常清洗情況的發生，大大提升了生產效率和產品質量。

本次展會為迅杰光遠提供了一個展示實力、交流合作的很好的平臺。迅杰團隊與專家學者進行了深入交流，共同探討了近紅外光譜分析技術在半導體行業的應用和發展趨勢，并尋求解決方案和創新思路。

展望未來，迅杰光遠將繼續堅守科技創新的初心，持續深耕近紅外光譜分析技術。我們將進一步加大研發投入，通過技術創新不斷提升產品的性能與質量，以滿足市場和客戶日益增長的需求。同時，迅杰光遠將積極尋求與行業內外的更多企業建立合作伙伴關系，共同推動半導體行業的高質量發展，攜手邁向更加繁榮、可持續的未來。